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超高真空磁控濺射鍍膜機了解一下
- 2022-03-31-

產品簡介

超高真空磁控濺射鍍膜機屬于高端薄膜制備設備,首先,用于生長各種微納米尺度的單層膜或多層膜材料,可制備超硬膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導薄膜、磁性薄膜、光學薄膜,以及各種具有特殊功能的薄膜,尤其是在微電子機械系統、微流體、納米壓印、微電子封裝、生物芯片等跨學科領域有著重要應用。其次,用于第三代半導體開放研發線,能夠成為SiC及GaN溝槽型器件的制備的關鍵工藝,同時也是C膜、金屬薄膜等類似薄膜制備的必不可少手段之一。設備主要包括:

1、沉積反應腔

2、樣品臺系統

3、磁控濺射陰極靶系統

4、直流和射頻供電系統

5、高真空無油排氣系統

6、真空測量及控制系統

7、氣體流量控制系統

8、LOAD-LOCK手動上下片系統

9、上位機軟件控制系統





超高真空磁控濺射鍍膜機



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