離子束刻蝕機

v  功能特點

ü  本底真空-8Torr-10Torr

ü 四軸樣品臺，XYZ方向均可調節，可傾斜，可旋轉

ü  RFICP射頻離子源

ü霍爾或考夫曼輔助離子源

ü  雙掩膜Dual mask

ü  UpStream/Downstream控制

ü  膜厚監控儀

ü  可增加OES等離子發射光譜儀定性分析等離子成分

ü  可增加RGA四極質譜儀

ü  可增加進樣室，手動/自動上下片基片

（可根據客戶要求定制）