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激光直寫光刻機知識點科普
- 2021-12-25-

激光直寫光刻機知識點科普

   激光直寫光刻機知識是一種多功能激光光刻機,采用固定連續的375nm或405nm紫外光源,直接在光刻膠或紫外敏感膠中刻劃出微結構,直寫面積可達6英寸,較小特征尺寸(寬)可達1微米,適用于掩蔽、半導體、玻璃、晶體、薄膜等多種基片。

  激光直寫光刻機知識,提供垂直直寫和掃描兩種方式,保證正軌偏差小于100nm。本實用新型采用電動光學聚焦系統,能迅速、準確地對焦,以適應各種厚度基板的要求,并有可供客戶選擇的晶圓裝、卸料系統,加強清潔度,增加工作效率,提高用戶安全性。

激光直寫光刻機知識特點”

1.十分緊湊的桌面式設計。

2.遮蔽制作與激光直寫。

3.可選擇375nm或405nm的激光光源。

4.適用于各種商業光刻膠。

5.這種反差可以達到1x20。

6.自動聚焦

7.垂直書寫或掃描直寫模式。

8.激光直寫高分辨光刻機的參數。

9.直寫速度:可達500mm/s。

10.位移儀分辨率:100nm。

11.循環精度:100nm。

12.薄片直寫面積:1-6英寸。

13.襯底厚度:250um-10mm。

14.激光點尺寸:1um-50um。

15.標定精度:500nm。


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