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超高真空磁控濺射鍍膜機知識點介紹
- 2021-12-25-


此設備屬于高端薄膜制備設備,首先,用于生長各種納米尺度的單層膜或多層膜材料,可制備超硬膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導薄膜、磁性薄膜、光學薄膜,以及各種具有特殊功能的薄膜,尤其是在微電子機械系統、微流體、納米壓印、微電子封裝、生物芯片等跨學科領域有著重要應用。其次,用于第三代半導體開放研發線,能夠成為SiC及GaN溝槽型器件的制備的關鍵工藝,同時也是C膜、金屬薄膜等類似薄膜制備必不可少手段之一。設備主要包括:


1、沉積反應腔

2、樣品臺系統

3、磁控濺射陰極靶系統

4、直流和射頻供電系統

5、高真空無油排氣系統

6、真空測量及控制系統

7、氣體流量控制系統

8、LOAD-LOCK手動上下片系統

9、上位機軟件控制系統

  以上就是小編為大家介紹的超高真空磁控濺射鍍膜機的全部內容,看完這篇文章相信大家應該有所了解了!

  感謝大家耐心看完小編分享的文章,如果有需要了解更多超高真空磁控濺射鍍膜機及反應離子刻蝕機的相關知識,歡迎聯系我們,24小時竭誠為您服務!


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