超高真空磁控濺射鍍膜機

v  功能特點

ü  本底真空：2E-10torr

ü  4個UHV超高真空陰極

ü  系統可烘烤

ü  共濺或順序濺射系統

ü  4軸加熱樣品臺，可旋轉、XYZ方向均可移動

ü  SiC加熱器，加熱溫度850℃以上

ü  多腔體真空互聯

ü  手動或自動LoadLock上下片系統

 v  沉積材料

ü  Nb、Ti、Al、NbTi等低溫超導材料

ü  Fe、Co、Ni及合金磁性等材料